CEW-3000熒粉磁粉探傷機

一、概述

CEW—3000交直流熒光磁粉探傷機，是交直流兩用3000型磁粉探傷機，交流探傷相比直流探傷的優點是近表面探傷效果非常好，而直流探傷相比交流探傷的優點是探傷深度比交流要深，所以交直流探傷相配合時，些探傷效果非常好，本機適用于鐵磁材料齒輪、棒材、管材、鑄材、軸類等類似形狀的工件多品種、探傷設備，可對工件進行周向、縱向、復合磁化和退磁，周向、縱向、復合均帶斷電相位控制，采用連續法、濕法探傷，一次性磁化全方位顯示磁痕。  
本交直流熒光磁粉探傷機采用OMRON工業程序控制器（PLC機）控制，全方位退磁，并具有可編程功能，可進行工件夾緊→自動噴液→磁化一次→磁化二次→停止噴液→磁化三次→退磁→松夾→下料等作業，是多品種產品探傷檢測的理想設備。

二、原理

該熒光磁粉探傷機以小型工業可編程序控制器（PLC）為核心，對系統的機械程序動作，夾緊、噴灑磁懸液、磁化、松夾、等動作進行控制，能按規定程序完成除上下料及缺陷觀察以外的全部探傷過程，即可自動操作，又可手動單步操作。
該熒光磁粉探傷機對工件的磁化采用復合磁化方式, 即周向磁化和縱向磁化相配合，可一次性檢測出磁化范圍內工件表面的全方位缺陷。 周向磁化采用通電法，縱向磁化采用磁感應法。周向磁化和縱向磁化均使用 50Hz 工頻交流電作為電源，兩路電壓的相位相差120?工件在復合磁化時，由矢量分析可知，在工件的表面將形成一個隨時間變化的橢圓形旋轉磁場。只要選擇合適的磁化電流強度，就能使工件表面獲得較均勻的磁場分布。
該熒光磁粉探傷機磁化電源的主電路采用可控硅無節調壓電路，利用隔離主變壓器以低電壓大電流方式輸出，對工件進行周、縱向交流復合磁化，從而一次性探傷就可檢查出工件表面和近表面因鍛壓、拉伸、淬火、研磨、疲勞而引起的裂痕及夾渣等細微缺陷。控制電路采用集成電路技術，利用改變可控硅導通角來調整主電路輸出電流的大小，磁化電流連續可調，并具有斷電相位控制功能，既可用于連續法探傷，又可用于單方向磁化時的剩磁法探傷。
本機的周向和縱向輸出電壓低于36V，因此不會對人體構成電的傷害。
 

三、設備的主要技術指標1.周向磁化電流:0-3000A連續可調（交流）；

2.縱向磁化磁勢:0-24000AT正、負導相（直流）；
3.退磁磁勢:24000AT-0正、負衰減（直流）；
4.復合磁化電流:周向0-3000A連續可調(交流)、縱向0-24000AT正、負導相(直流)；
5.探頭夾持距離:700m
6.磁化效果： 工件表面用A型15/50試片貼面，顯示清晰
7.氣源壓力： ≥ 0.4 Mpa （氣源用戶自備）
8.紫外線強度：距工件表面380mm處不小于4000μw/cm2；
9.電源: 三相四線 AC 380V±10% 50HZ 最大約 150A 
10.暫載率: ≥20%
 

四、結構形式該熒光磁粉探傷機為機、電一體式結構，主要由磁化裝置、磁懸液噴灑及回收系統等部分組成。

1、磁化裝置
夾持裝置以床身為基礎，不銹鋼集液槽為界，分上下兩部分。
上部裝有夾持裝置、噴灑裝置和照明系統等。下部裝有輸出磁化電流的周、縱向主變壓器、互感器、連接銅排、氣動元件安裝板、儲液箱。
2、磁懸液噴灑及回收系統
磁懸液噴灑及回收系統由集液槽、儲液箱、抽液泵、攪拌器、輸液管和噴液器組成。其中儲液箱為獨立整體，箱蓋上裝有抽液泵，進行磁懸液的抽液和攪拌。為了使磁懸液不產生吸附沉淀,集液槽采用非磁性材料不銹鋼制成。
 

五、控制電路工作原理

本熒光磁粉探傷機采用可編程序控制器（PLC）來控制整機動作，每個動作順序及磁化的次數和時間，可根據不同工件的檢測工藝要求來編制PLC的工作程序，以便使整個探傷設備達到最大的使用效率和最佳的使用效果。

本熒光磁粉探傷機是利用對工件在外加磁場的作用下，對工件表面的周向磁化電流和縱向磁化磁勢由小到大，同時達到足夠的磁化范圍，并同時在工件表面噴灑水制熒光磁粉磁懸液，使其均勻地附著在工件表面，在工件有裂紋和缺陷的地方引起導磁率的變化，形成局部磁極而產生聚粉現象，在長波紫外線的作用下，由熒光效應而激發出明顯的熒光線狀，達到探傷識別目的。